Unimill 離子減薄儀--用于 TEM/XTEM 樣品制備的全自動離子束減薄系統(tǒng)

Technoorg Linda UniMill 離子減薄儀專為快速地制備具備高減薄率的、高質(zhì)量的 TEM/XTEM 樣品而設(shè)計。 Unimill 既可以使用超高能離子槍進行快速研磨，也可以使用專用的低能離子槍進行最終拋光和精修處理。

產(chǎn)品特色：

·可直接使用同一臺儀器進行快速減薄和拋光/精細處理

·支持全自動的離子槍參數(shù)設(shè)置和手動調(diào)節(jié)離子束研磨參數(shù)

·具備廣泛的離子槍能量范圍： 低能離子槍與超高能離子槍結(jié)合，能量范圍可達 100 eV ~ 16 keV

·具備高的切削率

·可選擇配備 LN2 液氮制冷

離子槍優(yōu)勢

UniMill 包括兩支獨立控制的離子槍：一支高能或超高能離子槍和一支低能離子槍。

高能和超高能離子槍

Unimill 的高能和超高能離子槍提供了最高的研磨率。高達 16 keV 的離子槍專為要求極低研磨速率的 TEM 樣品制備而設(shè)計。

低能離子槍

離子槍的特殊結(jié)構(gòu)可在整個制備過程中形成高束流密度。能量極低的離子束保證了表面損傷和離子束誘導非晶化效應(yīng)的最小化。

離子槍控制

所有離子槍參數(shù)，如加速電壓和離子束電流在內(nèi)均由智能反饋回路控制，但始終可以在樣品制備過程中進行手動調(diào)節(jié)。離子槍參數(shù)的初始值支持自動設(shè)置或手動調(diào)節(jié)，同時可在電腦上連續(xù)監(jiān)控和顯示。

性能參數(shù)

離子槍

超高能離子槍（可選）：

• 離子束能量：高達16 keV，連續(xù)可調(diào)

• 離子束電流：高達 500 μA

• 離子束直徑：1.6 - 1.8 mm (FWHM)

高能離子槍（標配）：

• 離子束能量：高達10 keV，連續(xù)可調(diào)

• 離子束電流：高達 300 μA

• 離子束直徑：0.9 - 1.3 mm (FWHM)

低能離子槍：

• 離子束能量：100 eV - 2 keV，連續(xù)可調(diào)

• 離子束電流：7 - 80 μA

• 離子束直徑：1.5 - 2.2 mm (FWHM)

樣品臺

1. 切削角度：0°- 40°，每 0.1° 連續(xù)可調(diào)

2. 電腦控制的平面內(nèi)樣品旋轉(zhuǎn)和移動：

3. 360° 旋轉(zhuǎn)

4. 從±10° 到±120° 移動，每 10° 連續(xù)可調(diào)

5. 可兼容的 TEM 樣品厚度范圍 (30 - 200 μm)

成像系統(tǒng)

• 用于全視覺控制和切削監(jiān)控/終止的 CMOS 相機圖像

• 高分辨率彩色 CMOS 相機

• 50 - 400 倍放大范圍的手動變焦視頻鏡頭

電腦控制

• 內(nèi)置工業(yè)級計算機

• 簡單便捷的圖形界面和圖像分析模塊

• 支持用戶手動調(diào)節(jié)離子槍參數(shù)，包括氣流調(diào)節(jié)

• 用于自動設(shè)置機械和切削參數(shù)的預編程方案（可以

手動調(diào)整）

• 自動樣品加載

• 自動終止：圖像分析模塊支持的切削過程的光學終止

（ 通過檢測薄區(qū)穿孔或監(jiān)測表面形貌）

供氣系統(tǒng)

• 99.999% 純氬氣，絕對壓力為 1.3 - 1.7 bar

• 帶有電子出口壓力監(jiān)測功能的惰性氣體專用壓力調(diào)節(jié)器

•工作氣體流量高精準控制

真空系統(tǒng)

• Pfeiffer 真空系統(tǒng)配備無油隔膜和渦輪分子泵，配備緊湊

的全范圍 Pirani/Penning 真空計

電源要求

• 100 - 120 V/10 A/ 50-60 Hz 或 220 - 240 V/5 A/ 50-60 Hz

成像案例